暗电流是如何形成的?

来源:学生作业帮助网 编辑:作业帮 时间:2024/05/02 17:02:17
暗电流是如何形成的?

暗电流是如何形成的?
暗电流是如何形成的?

暗电流是如何形成的?
暗电流是指P-N结在反偏压条件下,没有入射光时产生的反向直流电流.一般由于载流子的扩散产生或者器件表面和内部的缺陷以及有害的杂质引起.扩散产生的原理是在PN结内部,N区电子多,P区空穴多,因为浓度差,N区的电子就要向P区扩散,P区的空穴要向N区扩散,尽管PN结内建电场是阻止这种扩散的,但实际上这中扩散一直进行,只是达到了一个动态的平衡,这是扩散电流的形成.另外当器件的表面和内部有缺陷时,缺陷能级会起到复合中心的作用,它会虏获电子和空穴在缺陷能级上进行复合,电子和空穴被虏获到缺陷能级上时,由于载流子的移动形成了电流,同样有害的杂质在器件中也是起到复合中心的作用,道理和缺陷相同.
暗电流一般在分选硅片时要考虑,如果暗电流过大能说明硅片的质量不合格,如表面态比较多,晶格的缺陷多,有存在有害的杂质,或者掺杂浓度太高,这样的硅片制造出来的电池片往往少子寿命低,直接导致了转换效率低!
所以在分选时一定要注意

有多种原因,比如在P-N结加上反向偏置电压时,晶体材料表面缺陷形成的泄漏电流;或者直接由晶体中载流子热扩散而形成的本征暗电流。